某光电器件制作业各个企业因晶圆刷洗生产工艺诞生含氨污水，蓄水量200吨/天。污泥里除氯离子外还有氟化物和氢化物发生器巨资属，除理困难程度大。当地城市直接排放条件耍求氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废气化学成分及来历 晶圆清洁工作废液（一般起源）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀生产工序废气：含少量铜、镍等天价属，pH值冲击大 CMP磨细废水处理工艺：含硅顆粒及氧化还原电位 正确处理加工过程流程图 主要采用"检查是否滤渣+膜隔离+折点氯化"组合成的工艺： 预进行处理 ：加药CaCl2除氟，把握pH在7.5-8. 反渗透装置系统的 ：彻底清除0.01μm不低于顆粒物 反融合沉淀 ：将氧化还原电位浓缩液至1000mg/L上述 折点氯化 ：准确度控制氯加药量，将氧化还原电位流量转化为氦气 阴阳离子对调 ：质量保障天价属考核标准 以后特效 化学需氧量比较稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 高价属含量的少于检测工具限 水中水回用率达75% 污泥干化造成量减低40%